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동진쎄미켐11

급변하는배터리시장 급변하는 배터리 시장, 실리콘 뜬다 음극재 생산에서 실리콘 첨가 비율 확대 추세 배터리 3사, 내년 두 자릿수 비율로 양산 목표 이미지 확대보기LG에너지솔루션 오창공장 내 음극 생산시설. 직원들이 생산된 음극을 살펴보고 있다. 사진=LG에너지솔루션 제공 전기차 보급 확산에 따라 핵심 동력원인 리튬이온 배터리의 수요도 빠르게 증가했습니다. 이 같은 시장 확대는 차세대 음극재 개발 경쟁으로 이어졌는데,음극재는 양극재·분리막·전해질과 함께 배터리를 구성하는 4대 핵심 소재로, 배터리의 수명과 충전시간을 좌우하기 때문이인데 , 주원료는 인조흑연과 실리콘입니다. 업계에 따르면, 시장에선 지금까지 흑연계 음극재를 주로 사용해왔는데,상대적으로 가격이 저렴하고 안정성이 높다는 평가에서다. 하지만 용량이 늘 아쉬웠다. .. 2022. 5. 17.
경인양행 (받은글입니다.투자에 참고하시면 되겠습니다.) 경인양행 [염료 부문] 1Q 상황은 전분기와 비슷하게 공급 부족, 수요 증가 염료 가격 인상 지속 단, 원재료 가격 상승으로 이익률은 비슷하거나 조금 적을수 있음 * 전분기 매출액 1115억 영업이익 118억 [사카린 부문] 최근 설탕가격 상승으로 사카린 가격도 연동되어 오르는 중 가격 인상 전망되면서 최근 수요 증가 공급 확대 2분기 실적에 반영 [포트레지스트 원료] 포토레지스트 PR 재고 부족으로 고객사 요구 증가 올 들어 한차례 가격 인상 마진 개선 연말까지 생산시설 증설 50%, 증설 후 캐파 연간 5-600억 규모 반도체 포토레지스트 원료부문도 올해부터 본격 턴어라운드 할 듯 EUV 국책과제 참여, 상용화는 아직 멀었음 동진쎄미켐 등 고객사 요구에 .. 2022. 4. 20.
일본수출규제관련주 지난 20일 반도체 업계에 따르면 포토레지스트는 반도체 제조의 첫 단계인 노광(감광,Photo) 공정에 필요한 소재인데, 웨이퍼(반도체 원판) 위에 액체 상태의 포토레지스트를 뿌리고, 그 위에 회로를 새긴 포토마스크를 얹어 빛을 쐬면 화학적 변화가 나타나며 웨이퍼 위에 회로가 그려지는 방식입니다. 빛을 쐬면 물리·화학적 변화가 일어나는 감광 현상을 이용한 것이다. 사진 인화 과정과 유사하며, 디스플레이 생산 공정에도 사용됩니다. 포토레지스트 가운데 구식 공정에 사용되는 불화크립톤(KrF·248㎚용), 아이-라인(i-Line·365㎚용) 등의 수급 상황이 좋지 않다는 것입니다.재고 상황이 일본 수출 규제 이후 매뉴얼화한 3개월 분량에 미치지 못하는 것으로 파악되고 있으며, 일부 업체는 재고 수준이 2개월 .. 2022. 4. 20.
포토레지스트관련주 반도체 PR 재고량, 마지노선 3개월치 무너졌다 반도체 감광액(포토레지스트·PR) 수급에 비상이 걸렸다. 재고량이 마지노선인 3개월치 아래로 떨어졌다. 성숙 공정 중심으로 수요가 급증했지만 공급이 받쳐 주지 않기 때문이다. 2019년 일본 수출 규제 이후 PR 공급망 다변화에 성공했지만 여전히 일본 의존도에서 탈피하지 못한 결과다. 국내 반도체 제조사가 일본산 PR를 확보하기 위해 비상이 걸렸다. 일부 파운드리는 평시 3개월분에 못 미치는 2개월분 수준까지 재고가 줄어든 것으로 파악됐다. PR 수급난이 장기화하면 재고 부족으로 반도체 생산에 차질이 불가피할 것으로 우려된다. 반도체 제조업계는 일본의 반도체·디스플레이 핵심 소재에 대한 수출 규제 이후 최소 3개월분 이상의 재고 확보를 매뉴얼화했다. 수급 .. 2022. 4. 15.
동진쎄미켐·영창케미칼, EUV 소재 국산화 도전 동진쎄미켐·영창케미칼, EUV 소재 국산화 도전 - EUV용 하드마스크·세정액 등 개발 - ‘日 독점’ 포토레지스트도 대응 우리나라 기업이 극자외선(EUV)용 제품 내재화에 나선다. 차세대 노광 기술인 EUV 시대에 돌입하면서 전용 소재 수요가 늘어나는 추세다. 일본 등 해외의존도가 높았던 만큼 삼성전자와 SK하이닉스 공급망 안정화에 기여할 것으로 기대된다. 23일 업계에 따르면 동진쎄미켐은 EUV용 하드마스크 ‘언더레이’를 개발 중이다. 하드마스크는 반도체 노광공정에 쓰이는 포토마스크 보조재료다. 노광은 포토레지스트가 발린 웨이퍼 위에 패턴이 그려진 포토마스크를 얹고 빛을 조사해 회로를 새기는 단계다. 이 과정에서 하드마스크는 패턴 붕괴를 막는 방패 역할을 한다. 공정 미세화로 노광 세기가 강해져 하드.. 2022. 2. 24.
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